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產品型號：STQ-8-12

爐膛尺寸：200 x300*120mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：箱式氣氛爐爐體法蘭式密封結構，在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結。

產品型號：STM-36-14PRO

爐膛尺寸：300*400*300mm

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1400℃馬弗爐(箱式電阻爐)應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STM-12-17

爐膛尺寸：200*300*200mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1700℃馬弗爐(箱式電阻爐)應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STS-8-17

爐膛容積：8L

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：主要應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域

產品型號：STS-8-18

爐膛容積：8L

額定溫度：1800℃

控溫精度：±1℃

應用領域：主要應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域

產品型號：STS-8-17

爐膛容積：8L

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：主要應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域

產品型號：STG-80-12-8

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1200℃高通量管式爐，此款產品適用于實驗室批量樣品高通量實驗工藝，8個爐膛可獨立控溫，爐膛采用新型的輕質陶瓷纖維材料作為內襯，電阻絲鑲嵌設計，升溫速度快，溫場均勻性好，采用集成式的人機交互智能PID控溫儀表，可編15組30個程序段，自動升溫，自動保溫；采用高品質石英管配合不銹鋼密封法蘭，可對爐管進行預備抽真空，也可通入流動性保護氣氛，實現真空和氣氛下的樣品批量熱處理

產品型號：STG-100-17Q

爐膛尺寸：Φ100x1000mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：STG-100-17Q 氫氣還原管式電阻爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STG-60-17Q

爐管尺寸：Φ60×1000mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產品廣泛應用于3D增材制造、新能源材料和粉末新材料行業的中試燒結和產品批量熱處理

產品型號：STGC-80-12

爐管尺寸：Φ80×800mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料

產品型號：STGC-60-17

爐管尺寸：Φ80×1000mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料

產品型號：STM-8-12-4

爐膛尺寸：200*300*120mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：STM-8-12-4高通量箱式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域的燒結和高溫熱處理。